MVR過程常用蒸發(fā)器的性能特點
MVR降膜蒸發(fā)器
在MVR降膜蒸發(fā)器中，液體和蒸汽向下并流流動。料液經(jīng)預熱器預熱至沸騰溫度，經(jīng)頂部的液體分布裝置形成均勻的液膜進入加熱管，并在管內(nèi)部分蒸發(fā)。二次蒸汽與濃縮液在管內(nèi)并流而下。
特點及適用物系：
料液在蒸發(fā)器中的停留時間短，能適應熱敏性溶液的蒸發(fā)； 降膜蒸發(fā)器易使管內(nèi)的泡沫破裂，故亦適用于易發(fā)泡物料的蒸發(fā)；另外，降膜蒸發(fā)還適用于高粘度溶液。
優(yōu)點：
由于降膜蒸發(fā)器是液膜傳熱，所以其傳熱系數(shù)高于其他形式的蒸發(fā)器；此外，降膜蒸發(fā)沒有液柱靜壓力，傳熱溫差顯著高于其他形式的蒸發(fā)器，故可取得良好的傳熱效果，一次性投入小，是業(yè)主優(yōu)先選擇的蒸發(fā)器形式。
MVR強制循環(huán)蒸發(fā)器
主要特點：
1、蒸發(fā)過程不在加熱表面而是在分離器中進行，因此，在列管中結(jié)殼和沉淀產(chǎn)生的結(jié)垢現(xiàn)象被降低到低限度。
2、管內(nèi)流速由循環(huán)泵決定： 溶液在設備內(nèi)的循環(huán)主要依靠外加動力所產(chǎn)生的強制流動。循環(huán)速度一般可達15-35米/秒。
傳 熱效率和生產(chǎn)能力較大。原料液由循環(huán)泵自下而上打入，沿加熱室的管內(nèi)向上流動。蒸汽和液沫混合物進入蒸發(fā)室后分開，蒸汽由上部排出經(jīng)壓縮機壓縮，溫度、壓 力提高，熱焓增加，然后進入換熱器冷凝，以充分利用蒸汽的潛熱，流體受阻落下，經(jīng)圓錐形底部被循環(huán)泵吸入，再進入加熱管，繼續(xù)循環(huán)。
特點：
1. 傳熱系數(shù)較低；
2. 換熱表面不易形成結(jié)垢或結(jié)晶。
應用范圍：
a、適用于易結(jié)垢液體、高粘度液體
b、適合用作鹽溶液的結(jié)晶蒸發(fā)器
MVR-FC連續(xù)結(jié)晶器
帶有MVR強制循環(huán)結(jié)晶器簡稱MVR—FC，結(jié)晶室有錐形底，晶漿從錐形底排出后，經(jīng)循環(huán)管，靠循環(huán)泵送入換熱器，被加熱后，重又進入結(jié)晶室，如此循環(huán)往復，實現(xiàn)連續(xù)結(jié)晶過程。
晶漿排出口位于接近結(jié)晶室錐底處，而進料口則在排料口之下的較低位置上。由結(jié)晶分離出來的二次蒸汽經(jīng)過壓縮機升溫后輸送到蒸發(fā)器的加熱室中作為加熱蒸汽使用。
適用范圍：
這種結(jié)晶器可通過用于蒸發(fā)法、間壁冷卻或者真冷卻法結(jié)晶。產(chǎn)品的粒度約在0.1~0.84mm的范圍。這種結(jié)晶器已被用于氯化鈉、尿素、檸檬酸等產(chǎn)品。
MVR-OSLO連續(xù)結(jié)晶器
帶 有MVR的OSLO結(jié)晶器簡稱MVR—OSLO結(jié)晶器。料液進入系統(tǒng)后由循環(huán)泵送入蒸發(fā)器，受熱蒸發(fā)后，進入蒸發(fā)室，分離的二次蒸汽后的溶液，由中央下行 管直送到結(jié)晶器生長段的底部，然后再向上方經(jīng)結(jié)晶流化床、過飽和度得以消失，晶床中的晶粒得以生長，當粒子生長到要求的大小后，從產(chǎn)品出口排出。經(jīng)蒸發(fā)室 分離出的二次蒸汽經(jīng)過壓縮機升溫后送到蒸發(fā)器的加熱室當做加熱蒸汽使用。
特點：
這種結(jié)晶器主要特點為過飽和度產(chǎn)生的區(qū)域與晶體生長區(qū)域分別設置在結(jié)晶器兩處，晶體的循環(huán)母液流中硫化懸浮，為晶體的生長提供了良好的條件。
適用范圍：
適用于要求結(jié)晶粒度較大的物料生產(chǎn)。
MVR-DTB連續(xù)結(jié)晶器
帶有MVR強制循環(huán)DTB結(jié)晶器簡稱MVR—DTB連續(xù)結(jié)晶，此類結(jié)晶器是一種效能較高的結(jié)晶器。這種形式的結(jié)晶器性能良好，能產(chǎn)生較大的晶粒（粒度可達600~1200um）,生產(chǎn)強度較高，器內(nèi)不易結(jié)晶疤，其已經(jīng)成為連續(xù)結(jié)晶器的主要形式之一。
DTB型結(jié)晶器的內(nèi)部有一根導流管，在四周有一圓筒形的擋板。懸浮液在螺旋槳的推動下，在筒內(nèi)上升至液體表層，然后轉(zhuǎn)向下方，沿導流筒與擋板之間的環(huán)形通道流至器底，重又吸入導流管的下端，如此循環(huán)不已，形成接近良好的混合條件。
特點及應用：
這種結(jié)晶器具有清母液溢流和消除結(jié)晶的功能。適合于晶體在母液中沉降速度大于3mm/s的結(jié)晶過程。設備的直徑可以達到500mm——7.9m。